Substrat MgO
Penerangan
Substrat tunggal MgO boleh digunakan untuk mencipta peralatan komunikasi mudah alih yang diperlukan untuk penapis gelombang mikro superkonduktor suhu tinggi dan peranti lain.
Kami menggunakan penggilap mekanikal kimia yang mungkin disediakan untuk paras atom berkualiti tinggi pada permukaan produk, Saiz terbesar 2”x 2”x0.5mm substrat tersedia.
Hartanah
| Kaedah Pertumbuhan | Lebur Arka Khas |
| Struktur Kristal | Kubik |
| Pemalar Kekisi Kristal | a=4.216Å |
| Ketumpatan（g/cm3） | 3.58 |
| Takat Lebur（℃） | 2852 |
| Kesucian Kristal | 99.95% |
| Pemalar Dielektrik | 9.8 |
| Pengembangan Terma | 12.8ppm/℃ |
| Satah Belahan | <100> |
| Transmisi Optik | >90%（200~400nm）,>98%（500~1000nm） |
| Prefection Kristal | Tiada kemasukan yang kelihatan dan keretakan mikro, lengkung goyang X-Ray tersedia |
Definisi Substrat Mgo
MgO, singkatan untuk magnesium oksida, adalah substrat kristal tunggal yang biasa digunakan dalam bidang pemendapan filem nipis dan pertumbuhan epitaxial.Ia mempunyai struktur kristal padu dan kualiti kristal yang sangat baik, menjadikannya sesuai untuk mengembangkan filem nipis berkualiti tinggi.
Substrat MgO terkenal dengan permukaan licin, kestabilan kimia yang tinggi, dan ketumpatan kecacatan yang rendah.Sifat ini menjadikannya sesuai untuk aplikasi seperti peranti semikonduktor, media rakaman magnetik dan peranti optoelektronik.
Dalam pemendapan filem nipis, substrat MgO menyediakan templat untuk pertumbuhan pelbagai bahan termasuk logam, semikonduktor dan oksida.Orientasi kristal substrat MgO boleh dipilih dengan teliti untuk memadankan filem epitaxial yang dikehendaki, memastikan tahap penjajaran kristal yang tinggi dan meminimumkan ketidakpadanan kekisi.
Di samping itu, substrat MgO digunakan dalam media rakaman magnetik kerana keupayaannya untuk menyediakan struktur kristal yang sangat teratur.Ini membolehkan penjajaran domain magnetik yang lebih cekap dalam medium rakaman, menghasilkan prestasi penyimpanan data yang lebih baik.
Kesimpulannya, substrat tunggal MgO ialah substrat kristal berkualiti tinggi yang digunakan sebagai templat untuk pertumbuhan epitaxial filem nipis dalam pelbagai aplikasi, termasuk semikonduktor, optoelektronik, dan media rakaman magnetik.
